テーマ：

LSI設計におけるAI活用講座

日時・開催形態：

2025年8月19日 (火) 13:30-17:00,ハイブリッド開催 (現地+WebEX)

対面開催場所：

〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1 東京大学生産技術研究所 An棟3階大会議室

オーガナイザー：

室山（東北工大）、粟野（京大）、田中（立命館大）、小菅（東大）、吉川（富士通）

スコープ：

AI技術の進展は、従来の情報処理分野にとどまらず、LSI設計においても新たなアプローチや価値をもたらしつつあります。設計自動化、性能予測、レイアウト最適化など、設計プロセスの多くの段階でAIの導入が模索され、実際に実装され始めています。本講座では、「LSI設計におけるAI活用」をテーマに、AI技術をLSI分野でどのように理解し、取り入れていくべきかについて多面的に考える機会を提供します。AIに不慣れなLSI技術者にとっての導入的内容から、実務や研究における応用を志す参加者まで、それぞれが自らの視点でヒントを得られることを目指します。

プログラム：

13:30-13:35　　「はじめに」小林和淑（京都工芸繊維大学）
13:35-13:40　　「趣旨説明」オーガナイザ
13:40-14:40　　「Smart Silicon Manufacturing and Lifecyle management using AI」Thomas Edison Yu, Kevin Won（Synopsys）
14:40-14:50　　　休憩
14:50-15:50　　「アンプ設計におけるAI活用　〜最適化アルゴリズムからLLMまで〜」髙井伸和（京都工芸繊維大学）
15:50-16:00　　　休憩
16:00-17:00　　「LLM-Driven Hardware Design: Enhancing Robustness with EDA-in-the-Loop」Valerio Tenace（Primisai）

主に就職活動を控えた学生に向けた企業の紹介および相談の場を用意しました。是非ご参加ください。
17:10-17:20　　ヌヴォトンPR（対象：現地・オンライン）
17:20-17:30　　富士通PR（対象：現地・オンライン）
17:30-18:00　　個別相談（対象：現地のみ）

参加登録：

こちら（2025/08/13締め切り）

講演資料：

講演資料のパスワードおよびWebEXへのリンクは研究会開催の2日前までに参加登録アドレス宛に送付します。

参加人数：対面１８名、WebEx６７名